樂天集團中國産業園區品牌連鎖運營商

AMD申請3D堆疊散熱專利:妙用熱電效應

發布時間:2019-07-01 發布者:亞時财經

随着2D平面半導體技術漸入瓶頸,2.5D、3D立體封裝普遍被視爲未來大趨勢,AMD Fiji/Vega GPU核心與HBM顯存、Intel Foveros全新封裝、3D NAND閃存等等莫不如此。但随着堆疊元器件的增多,集中的熱量如何有效散出去也成了大問題,AMD就悄然申請了一項非常巧妙的專利設計。


AMD Fiji GPU與HBM顯存


Intel Foveros立體封裝


根據專利描述,AMD計劃在3D堆棧的内存或邏輯芯片中間插入一個熱電效應散熱模塊(TEC),原理是利用帕爾貼效應(Peltier Effect)。


它也被稱作熱電第二效應、溫差電效應。由N型、P型半導體材料組成一對熱電偶,通入直流電流後,因電流方向不同,電偶結點處将産生吸熱和放熱現象。


按照AMD的描述,利用帕爾貼效應,位于熱電偶上方和下方的上下内存/邏輯芯片,不管哪一個溫度更高,都可以利用熱電偶将熱量吸走,轉向溫度更低的一側,進而排走。



不過也有不少問題AMD沒有解釋清楚,比如會不會導緻上下的元器件溫度都比較高?熱電偶本身也會耗電發熱又如何處理?


但總的來說,AMD的這個思路非常新奇巧妙,未來或許會有很光明的前景。





責任編輯:楊穎

文章來源:快科技


特别聲明:本站轉載或引用之圖文若侵犯了您的合法權益,請與本站聯系,本站将及時更正、删除。版權問題及網站合作,請通過亞時财經郵箱聯系:asiatimescn@sina.com

熱門話題更多>>

推薦文章

更多>>

掃一掃手機閱讀

ATimesCN手機網站