AMD申請3D堆疊散熱專利:妙用熱電效應
發布時間:2019-07-01 發布者:亞時财經
随着2D平面半導體技術漸入瓶頸,2.5D、3D立體封裝普遍被視爲未來大趨勢,AMD Fiji/Vega GPU核心與HBM顯存、Intel Foveros全新封裝、3D NAND閃存等等莫不如此。但随着堆疊元器件的增多,集中的熱量如何有效散出去也成了大問題,AMD就悄然申請了一項非常巧妙的專利設計。
AMD Fiji GPU與HBM顯存
Intel Foveros立體封裝
根據專利描述,AMD計劃在3D堆棧的内存或邏輯芯片中間插入一個熱電效應散熱模塊(TEC),原理是利用帕爾貼效應(Peltier Effect)。
它也被稱作熱電第二效應、溫差電效應。由N型、P型半導體材料組成一對熱電偶,通入直流電流後,因電流方向不同,電偶結點處将産生吸熱和放熱現象。
按照AMD的描述,利用帕爾貼效應,位于熱電偶上方和下方的上下内存/邏輯芯片,不管哪一個溫度更高,都可以利用熱電偶将熱量吸走,轉向溫度更低的一側,進而排走。
不過也有不少問題AMD沒有解釋清楚,比如會不會導緻上下的元器件溫度都比較高?熱電偶本身也會耗電發熱又如何處理?
但總的來說,AMD的這個思路非常新奇巧妙,未來或許會有很光明的前景。
責任編輯:楊穎
文章來源:快科技
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